食器洗い乾燥機洗剤洗浄タイプ：スライドオープンタイプ　RSW-404LP

マルチショットでスミズミまで均等に洗浄する「タワーウォッシャー」

水圧で上下に伸びるセンターのタワーノズルが水平方向に、下部回転式ノズルが垂直方向に高圧シャワーをくまなく噴射し、重なった食器の間からカゴの端にセットされた食器、スプーンやフォークの小物の細部にいたるまで立体的に洗浄。汚れたフライパンやボウルなどもしっかり洗い流します。

食器が入れやすいポジションサイン^※とピン

食器をセットする位置がひと目でわかるようポジションサイン^※をカゴに印字。また、ピンを短くすることで、食器のセットがしやすくなりました。大皿用のセットピンが折りたためるので、大きめの食器や鍋もラクにセットが可能です。（※ 特許第6104855号号）

食器を簡単にセットできる「スムーズラック」［下カゴ］

食器をセットする位置がわかりやすくなっているため、食器を種類ごとに迷わずにセットできます。セットしやすさだけでなく、水流が食器のスミズミにまでいきわたるよう、洗浄性にもこだわった配置です。

写真はRSW-404LPです

食器をセットしやすい「折りたたみサークルラック」［上カゴ］

用途にあわせて折りたたむことができる、洗浄性を高めたサークル状のラック。上カゴを外さずに、茶わんなどを下カゴの奥にラクにセットできます。（特許第5980276号）

※ 機種によってセットできるコップの点数やラックの形状が異なります

菌まで洗い流す^※｢除菌スチーム洗浄｣

除菌まで可能な秘密は、マイクロメートル単位のスチーム粒子。水の粒子では入り込めない汚れのくぼみにまで入り込み、手洗いでは落ちない汚れも菌ごと洗い流します。

浮遊カビ菌^※1やニオイを抑える「プラズマクラスター」技術

イオンの力で浮遊カビ菌^※1や付着したニオイを抑制する注目の技術「プラズマクラスター」を食器洗い乾燥機に搭載しました。

プラズマクラスターロゴおよびプラズマクラスター、Plasmaclusterはシャープ株式会社の登録商標です。

洗浄直後のクリーンな状態をキープ

食器の乾燥時に外気から取り込まれる空気をプラズマクラスターイオンが浄化。高濃度なプラズマクラスターイオンにより、浮遊カビ菌^※1の分解・除去に加え、付着しているカビ菌の増殖も抑制します。また手洗いした食器も「クリーンキープコース」で保管すれば清潔さを保ちます。

※1〈浮遊カビ菌〉 ●試験機関（一財）石川県予防医学協会●試験方法:約31m³（約8畳相当）の試験空間にプラズマクラスターイオンを放出し、浮遊カビ菌をエアーサンプラーにて測定。（プラズマクラスターイオン濃度:25,000個/㎤） ■試験結果:約83分で除去率99%
※2 水分子に取り囲まれていないイオンと比較。シャープ(株)調べ。
※3 〈付着カビ菌の増殖抑制〉 ●試験依頼先：（一財）日本食品分析センター ●試験成績書：第12076306004-01号（平成24年9月6日発行）
● 試験方法：シャープ（株）にて約20m³（約5畳相当）の試験空間にカビ菌を付着させた塩ビ板を置き、プラズマクラスターイオンを放出し、カビ菌を3日間増殖させたものを試験依頼。JISZ2911を参考にしてカビ発育面積を比較。（プラズマクラスターイオン濃度：25,000個/cm³）■試験結果：3日後に付着カビ菌の増殖を抑制。